[发明专利]被处理液循环型刮取式析晶装置有效
| 申请号： | 02154019.5 | 申请日： | 2002-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN1493383A | 公开（公告）日： | 2004-05-05 |
| 发明（设计）人： | 竹上敬三;高桥谦之;佐藤教子 | 申请（专利权）人： | 月岛机械株式会社 |
| 主分类号： | B01D9/02 | 分类号： | B01D9/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种被处理液循环型刮取式析晶装置，具有：析晶槽(6)、流通管(7)、外侧旋转桨叶(8)、围绕圆周壁轴线旋转并刮取附着于圆周壁(3)内面(3A)上结晶的刮取叶片(9)、从槽底(4)向圆周壁轴线方向延伸的被处理液P的旋转流抑制板(10)。并且，在流通管(7)的内侧下端部，具有把被处理液P向旋转流抑制板(10)推进的内侧旋转桨叶(12)。这种被处理液循环型刮取式析晶装置，既可防止结晶的磨损和破碎，又可使结晶更大地成长，而且可以减少微细结晶。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 循环 型刮取式析晶 装置 | ||
【主权项】：
1.一种被处理液循环型刮取式析晶装置，包括：具有筒状圆周壁及槽底并供有被处理液的析晶槽、设置于该析晶槽内的流通管、设置于该流通管外侧的外侧旋转桨叶、围绕所述圆周壁的轴线旋转并刮取附着于所述圆周壁内面上结晶的刮取叶片、从所述槽底向所述圆周壁的轴线方向延伸的至少一片被处理液旋转流抑制板；通过所述外侧旋转桨叶的旋转，产生使被处理液沿流通管的外侧上升并沿内侧下降的被处理液的循环，其特征在于：在所述流通管的内侧的下端部，具有把被处理液往所述旋转流抑制板推进的内侧旋转桨叶。
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