[发明专利]基于协同作用屏蔽剂混合物的抗日光化妆品组合物以及用途无效
申请号: | 02154034.9 | 申请日: | 2002-12-06 |
公开(公告)号: | CN1425368A | 公开(公告)日: | 2003-06-25 |
发明(设计)人: | D·坎多 | 申请(专利权)人: | 莱雅公司 |
主分类号: | A61K7/42 | 分类号: | A61K7/42;A61K7/06 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王景朝,罗才希 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及用于局部用途、尤其是用于皮肤和/或头发光照保护的化妆品或者皮肤学组合物,其特征在于在化妆品可接受的载体中包括至少:(a)作为第一屏蔽剂的不溶性有机UV屏蔽剂,其粒度范围为10nm到5μm,和(b)作为第二屏蔽剂的特定的氨基取代的2-羟基-二苯甲酮衍生物。这两种屏蔽剂的结合,在参照的太阳光防护系数方面获得了协同效应。本发明还涉及它们在保护皮肤和头发免受紫外线影响中的应用。 | ||
搜索关键词: | 基于 协同 作用 屏蔽 混合物 抗日 化妆品 组合 以及 用途 | ||
【主权项】:
1.用于局部用途、尤其是用于皮肤和/或头发的光照保护的化妆品或者皮肤学组合物,其特征在于在化妆品可接受的载体中包括:(a)作为第一屏蔽剂的至少一种不溶性有机UV屏蔽剂,其粒度范围为10nm到5μm,和(b)作为第二屏蔽剂的至少一种以下通式(I)的氨基取代的2-羟基二苯甲酮衍生物:其中:R1和R2,其是相同或不同的,表示氢原子、C1-C20烷基、C2-C10烯基基团、C3-C10环烷基基团或者C3-C10环烯基基团;R1和R2还可以与它们键接的氮原子形成5-或者6-元环;R3和R4,其是相同或不同的,表示C1-C20烷基、C2-C10烯基基团、C3-C10环烷基基团、C3-C10环烯基基团、C1-C12烷氧基基团、(C1-C20)烷氧羰基基团、C1-C12烷基氨基基团、二(C1-C12)烷基氨基基团、芳基或者杂芳基,其选择性地被取代,或者选自羧酸盐基团、磺酸盐基团或者铵残基的水增溶取代基;X表示氢原子或者COOR5或者CONR6R7基团;R5、R6和R7,其是相同或不同的,表示氢原子、C1-C20烷基、C2-C10烯基基团、C3-C10环烷基基团、C3-C10环烯基基团、-(YO)o-Z基团或者芳基基团;Y表示-(CH2)2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-或者-CH-(CH3)-CH2-;Z表示-CH2-CH3、-CH2CH2CH3、-CH2-CH2-CH2-CH3或者-CH(CH3)-CH3;m是0到3的整数;n是0到3的整数;o是1到2的整数。
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