[发明专利]摄影元件、化合物和方法无效
| 申请号： | 02154048.9 | 申请日： | 2002-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN1423166A | 公开（公告）日： | 2003-06-11 |
| 发明（设计）人： | W·J·贝利;G·M·鲁索 | 申请（专利权）人： | 伊斯曼柯达公司 |
| 主分类号： | G03C7/38 | 分类号： | G03C7/38;G03C7/26;G03C1/46 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王景朝,王其灏 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种摄影元件,包含光敏性卤化银乳剂层,其具有与其缔合的式(I)的青色“NB成色剂”其中术语“NB成色剂”表示式(I)的成色剂,其形成的染料的用旋涂的左带宽(LBW)比溶液形式的相同染料至少小5nm；X选自O、NR*或S,并且R*是烷基、碳环或杂环基团；L是连接基团,且a为0或1；Y是H或解偶联基团；Z*是取代基,且p为0－2；和R1和R2是独立选择的H或取代基；前提是在R1、R2、R*、L和所有Z*中的脂族碳原子总数至少为8。 | ||
| 搜索关键词： | 摄影 元件 化合物 方法 | ||
【主权项】：
1.一种摄影元件，包含光敏性卤化银乳剂层，其具有与其缔合的式(I)的青色“NB成色剂”：其中：术语“NB成色剂”表示式(I)的成色剂，其形成的染料的用旋涂的左带宽(LBW)比溶液形式的相同染料至少小5nm；X选自O、NR*或S，并且R*是烷基、碳环或杂环基团；L是连接基团，且a为0或1；Y是H或解偶联基团；Z*是取代基，且p为0-2；和R1和R2是独立选择的H或取代基；前提是：在R1、R2、R*、L和所有Z*中的脂族碳原子总数至少为8。
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