[发明专利]曝光方法和曝光装置无效
| 申请号： | 02154533.2 | 申请日： | 2002-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN1424627A | 公开（公告）日： | 2003-06-18 |
| 发明（设计）人： | 平柳德行 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 谷惠敏,关兆辉 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种能容易地进行掩模交换和温度管理的曝光方法和曝光装置。在真空初缩掩模版库64上设有用于承载放置被搬运的初缩掩模版的多级初缩掩模版台68。在该初缩掩模版台68内形成液道68a。通过使温度调节用的水流过初缩掩模版台68的液道68a，可以对初缩掩模版台上的初缩掩模版进行温度调节。另一方面，在大气初缩掩模版库66上设有多级初缩掩模版台69。初缩掩模版容器67分别放置在各初缩掩模版台69上。在初缩掩模版容器67和各初缩掩模版上贴有条形码70。当搬运初缩掩模版时，通过读取贴在初缩掩模版上的条形码70，可以对所搬运的初缩掩模版进行确认。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种曝光方法，在减压气氛中将掩模(包括初缩掩模版)上的图形复制到感应基板上，其特征在于，将预定使用的多枚掩模保持在与曝光装置连通的减压气氛中。
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