[发明专利]半导体装置及其制造方法无效

专利信息
申请号: 02154573.1 申请日: 2002-12-06
公开(公告)号: CN1424758A 公开(公告)日: 2003-06-18
发明(设计)人: 下冈义明;松永范昭;柴田英毅 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L23/522 分类号: H01L23/522;H01L27/00;H01L21/768
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 罗亚川
地址: 暂无信息 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及半导体装置及其制造方法,根据本发明,备有在半导体基片10上形成的通过所要频率f0的信号的信号线17,和通过相位与上述信号相反的信号或与接地电源连接的差动信号线13,信号线和差动信号线是大致平行那样地通过绝缘层15层积的,令不存在差动信号线时的信号线的每单位长度的电阻成分,电感成分,电容成分分别为R,L,C时,信号线的实际布线长l比从上述公式求得的布线长l0长。
搜索关键词: 半导体 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
1.半导体装置,它的特征是备有在半导体基片上形成的通过所要频率f0的信号的信号线,和通过相位与上述信号相反的信号或与接地电源连接的差动信号线,上述信号线和上述差动信号线是大致平行那样地通过绝缘层层积的,令不存在上述差动信号线时的上述信号线的每单位长度的电阻成分,电感成分,电容成分分别为R,L,C时,上述信号线的实际布线长l的特征是比从下列公式l0=LC+R2+8π2f02L24π2f02C2R2+4π2f02L2求得的布线长l0长。
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