[发明专利]漫反射板、用于其制备的转录原模、转录底膜、转录薄膜及漫反射板的制造方法无效
| 申请号： | 02154836.6 | 申请日： | 2002-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN1421710A | 公开（公告）日： | 2003-06-04 |
| 发明（设计）人： | 鹤冈恭生;木沢桂子;嶋崎俊胜;伴野秀邦;岩室光则;田井诚司;津田义博;吉田健 | 申请（专利权）人： | 日立化成工业株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02;G02F1/1335;B32B3/30 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种漫反射板，使光线发生漫反射，并具有连续的凹凸面，其中由相对漫反射板的基材表面形成的垂直面(a)和倾斜面(b)构成的锯齿状截面中，垂直面(a)和倾斜面(b)的]锯齿状截面连续重复，且对基材表面的倾斜面(b)的倾斜度为2－30度，对基材表面的垂直面(a)的倾斜度为75－105度，与其锯齿状截面相直交的倾斜面(b)的截面为具有振幅的波形。 | ||
| 搜索关键词： | 漫反射 用于 制备 转录 薄膜 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种漫反射板，使光线发生漫反射，其特征在于由基材、形成在其表面的薄膜层及反射层构成，且具有连续凹凸面，其中在垂直于基材表面的一方向上薄膜层的截面呈由连续重复的垂直面(a)和倾斜面(b)形成的锯齿状，相对基材表面的垂直面(a)的倾斜度为75-105度，相对基材表面的倾斜面(b)的倾斜度为2-30度，与该锯齿状截面相直交、且与基材表面相垂直的倾斜面(b)的截面为具有振幅的波形。
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