[发明专利]线上激光晶圆承座清洁装置有效

专利信息
申请号: 02155577.X 申请日: 2002-12-11
公开(公告)号: CN1430243A 公开(公告)日: 2003-07-16
发明(设计)人: 余政宏 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;B08B7/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 陈红
地址: 暂无信息 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种线上激光晶圆承座清洁装置,包含有一可朝x轴-y轴-z轴方向运动的晶圆平台;一晶圆承座固定于该晶圆平台上,该晶圆承座具有一受有机物污染的表面;一层流气密舱,将该晶圆承座与大气环境隔离;一准分子激光产生模组,一激光传送系统与一激光对准投影透镜系统,传送激光并将激光导向该晶圆承座,使该受污染表面的有机物分解成小分子;以及一惰性气体供应系统,提供一惰性气体,以将该分解小分子带离该晶圆承座的该受污染表面;其中该步进机台尚包含有一制程控制电脑,可控制受污染的晶圆承座表面进行线上全面或局部的激光清洁;本发明利用激光并结合电脑以去除晶圆承座表面的污染物,避免人为处理去污产生的种种疏失,简化平坦度监控的异常处理,减少待机时间以及确保系统环境不受污染。
搜索关键词: 线上 激光 晶圆承座 清洁 装置
【主权项】:
1.一种具有线上激光晶圆承座清洁装置的步进机台,其特征是:该步进机台包含有:一准分子激光产生模组,产生一具有一固定波长的曝光脉冲激光;一可朝x轴-y轴-z轴方向水平及垂直运动的晶圆平台;一制程控制电脑,控制该晶圆平台的x轴方向位移量,以及y轴方向位移量,及z轴方向位移量;一晶圆承座,固定于该晶圆平台上,吸真空固定一待曝光晶圆,该晶圆承座具有一受有机物污染的表面;一激光传送系统,将该脉冲激光以一预定入射角度导向该晶圆承座的该受污染表面,并将该受污染表面的有机物分解成小分子;一激光对准投影透镜系统,对准该曝光脉冲激光至该待曝光晶圆的焦距;一层流气密舱,设置于该激光传送系统的一端,将该晶圆承座与大气环境隔离,其中该层流气密舱具有一气体进口以及一排放出口;以及一惰性气体供应系统,与该层流气密舱的该气体进口相连接,提供一惰性气体,且该惰性气体于该层流气密舱呈现层流状态,以将该分解小分子带离该晶圆承座的该受污染表面;其中该受有机物污染的晶圆承座表面,可经由该制程控制电脑的控制而线上进行全面或局部的激光清洁。
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