[发明专利]电感耦合等离子体处理装置

摘要

本发明提供一种不使大型基板产生因电容耦合成分引起的等离子体密度降低和由电场分布偏差引起的等离子体密度不均匀，可用更高密度的等离子体来进行均匀等离子体处理的电感耦合等离子体处理装置。在通过向高频天线(13)供给高频电，在处理室(4)内形成电感耦合等离子体，对基板(G)实施等离子体处理的等离子体处理装置中，高频天线13构成为具有天线(46、47、48、49、50、51、52)的存在密度变疏松的部分(63)和变紧密的部分(61、62)，同时，在其中心部分(60)中不存在天线。

主权项

1.一种电感耦合等离子体处理装置，具备容纳被处理基板并实施等离子体处理的处理室；在所述处理室内载置被处理基板的基板载置台；向所述处理室内供给处理气体的处理气体供给系统；对所述处理室内进行排气的排气系统；构成所述处理室的上部壁的电介质壁；将天线形成为规定图案并设置在所述处理室外对应于所述电介质壁的部分中，通过供给规定的高频电而在所述处理室内形成电感电场的高频天线；以及向所述高频天线中心部附近供给来自高频电源的高频电的供电部件，通过向所述高频天线供给高频电来在所述处理室内形成电感耦合等离子体，从而对被处理基板实施等离子体处理，其特征在于，所述高频天线构成为具有所述天线的存在密度变疏松的部分和变紧密的部分，同时，在其中心部分不存在天线。