[发明专利]光学系统无效
| 申请号： | 02156957.6 | 申请日： | 2002-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN1424598A | 公开（公告）日： | 2003-06-18 |
| 发明（设计）人： | 堀崇展;床本勋;梶山博司;加藤明;鬼泽贤一;阿部诚;广田升一;杉田辰哉;足立昌哉;近藤克巳 | 申请（专利权）人： | 新明和工业株式会社;株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | G02B6/132 | 分类号： | G02B6/132;G02B1/11;C23C16/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 杨梧,马高平 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供光学特性和耐磨耗性优良、并且能够在低温下形成的光学系统。在用于把可见光透射率调整为任意值的光学系统(101)中，使光学系统(101)的至少一部分由具有3nm以上并且10nm以下的结晶粒径的氟化物(103)构成。该氟化物(103)还具有1～5m2/g的比表面积。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 | ||
【主权项】：
1、一种光学系统，其特征在于，至少一部分由具有3nm以上并且10nm以下的结晶粒径的氟化物所构成。
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