[发明专利]处理装置和使用该处理装置的试验设备无效
| 申请号： | 02157016.7 | 申请日： | 2002-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN1462887A | 公开（公告）日： | 2003-12-24 |
| 发明（设计）人： | 藤代惠治;佐藤康範;丸山茂幸;小桥直人 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社 |
| 主分类号： | G01R31/00 | 分类号： | G01R31/00;G01R31/26;H01R43/26 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 张祖昌 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种处理装置包括一个主组件，一个用于固定一物体的座、一个用于保持座以便使座可相对于主组件位移的保持器和一个用于有选择地使座处于锁定状态或解锁状态的锁定组件，在锁定状态中，座相对于主组件的位移受到限制，而在解锁状态中，座相对于主组件的位移不受限制。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 使用 试验 设备 | ||
【主权项】：
1.一种处理装置，它包括：一个主组件；一个用于固定一物体的座；一个保持器，它用于保持所述座，以便使所述座能够相对于主组件位移；以及一个锁定组件，它用于有选择地使所述座处于锁定状态和解锁状态，在锁定状态中，所述座相对于主组件的位移受到限制，而在解锁状态中，所述座相对于主组件的位移不受限制。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士通株式会社，未经富士通株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/02157016.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：有机硅酸酯聚合物和从其得到的绝缘膜
- 下一篇：层叠型光电元件
