[发明专利]法拉第旋转器、光学隔离器、偏振器和类金刚石碳薄膜无效
申请号: | 02157549.5 | 申请日: | 2002-12-20 |
公开(公告)号: | CN1427274A | 公开(公告)日: | 2003-07-02 |
发明(设计)人: | 大久保総一郎;松浦尚 | 申请(专利权)人: | 住友电气工业株式会社 |
主分类号: | G02B6/27 | 分类号: | G02B6/27;G02F1/19;H04B10/12 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 李德山 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 用于小型化、低成本的法拉第旋转器、偏振器(检偏器)和磁物质的;用于能处理多个波长的法拉第旋转器和光学隔离器中的;和用于对光学隔离器和各种光学器件进行小型化、降低成本并提高性能的新材料。作为一个例子,通过将具有波长选择性的法拉第旋转器(30)、由DLC薄膜形成的偏振器(20)和检偏器(40)、以及对光透明的磁物质(50)设置在一条直线上,构成光学隔离器(60b)。使用薄膜层叠技术一体化形成这些部件,可简化制造过程,以能够制造小型化、低成本的光学隔离器。 | ||
搜索关键词: | 法拉第旋转 光学 隔离器 偏振 金刚石 薄膜 | ||
【主权项】:
1.一种具有波长选择性,用于有选择地仅旋转给定波长入射光偏振面的法拉第旋转器,该法拉第旋转器包括:一磁光部件,用于旋转沿所述磁光部件的磁场方向传播的入射光的偏振面;和一介电多层膜,其中低折射率层和高折射率层交替层叠,用于将至少一个波长的入射光限制在所述磁光部件中。
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