[发明专利]一种热蒸积制备大面积薄膜的方法和装置无效
| 申请号： | 02157979.2 | 申请日： | 2002-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN1510161A | 公开（公告）日： | 2004-07-07 |
| 发明（设计）人： | 刘震;周岳亮;朱亚彬;王淑芳;陈正豪;吕惠宾;杨国桢 | 申请（专利权）人： | 中国科学院物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/38 | 分类号： | C23C14/38 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王凤华 |
| 地址： | 100080北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及采用热蒸积制备大面积薄膜的方法和装置。该方法包括：将真空室抽真空达到所要求的真空度，再对真空室内的上下相对设置的阳极和阴极上施加电压，利用直流弧光放电的低气压自持导电过程，上电极和下电极在一定真空度下放电，并将放在阴极铜锅内的所要蒸积的靶材熔融，蒸积出靶材金属等离子体淀积在基片上成膜。该装置是在真空镀膜设备中设置至少一对阳极和放有靶材的阴极，作为阳极的水冷电极上连接有活动接头，并与控制电源相连，该阳极与系统的循环水冷系统相连；电弧触发电极设置在阳极和阴极之间，电弧触发电极的引线穿出真空室外并与电弧触发控制电源电连接。本发明克服了靶材掺入到薄膜中而降低膜品质的问题，结构简单、易于操作。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 热蒸积 制备 大面积 薄膜 方法 装置 | ||
【主权项】：
1、一种热蒸积制备大面积薄膜的方法，其特征在于包括：将真空室抽真空达到所要求的真空度，然后对真空室内的上下相对设置的阳极和阴极上施加电压，利用直流弧光放电的低气压自持导电过程，上电极和下电极在一定真空度下放电，将放在阴极坩锅内的所要蒸积的靶材熔融，蒸积出靶材金属等离子体，等离子体在基片上淀积成薄膜。
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