[发明专利]一种热蒸发制备大面积薄膜的方法与装置无效
申请号: | 02157980.6 | 申请日: | 2002-12-20 |
公开(公告)号: | CN1510159A | 公开(公告)日: | 2004-07-07 |
发明(设计)人: | 刘震;周岳亮;朱亚彬;王淑芳;陈正豪;吕惠宾;杨国桢 | 申请(专利权)人: | 中国科学院物理研究所 |
主分类号: | C23C14/26 | 分类号: | C23C14/26 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王凤华 |
地址: | 100080北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及热蒸发制备大面积薄膜的方法和装置。该方法包括:将蒸积靶材加工成所设计的形状放置于真空室内,固定在水冷电极上;然后先将真空室用真空机组抽真空到10-2-10-7Pa,直接加热靶材将基片加热到蒸积温度;再用充气装置将系统充以所需气体,并动态保持所需压强;当加热片通过电流达到蒸积温度后,靶材被蒸积出来,经靶管引导沉积在基片上沉积一定时间后,生长一定厚度成膜,由系统的温度由测温仪测量。该装置把导电靶材本身制成一定形状的平板,再使一个大电流流经此平板,大电流产生的热将靶材加热到所需的温度。本发明的薄膜面积大不易污染、性能优良、蒸积速率快其易控制的优点。该装置结构简单,易于加工,使用方便。 | ||
搜索关键词: | 一种 蒸发 制备 大面积 薄膜 方法 装置 | ||
【主权项】:
1、一种热蒸发制备大面积薄膜的方法包括:将蒸积靶材制成的板状加热片固定在水冷电极上,然后先将真空室用真空机组抽空到10-2-10-7Pa,将基片加热到蒸积温度;再向真空室内充以所需气体,并动态保持所需压强;调节加热电源的输出功率和光栏的孔径以控制各个蒸发源速度比,当板状加热片通过电流达到蒸积温度后,靶材被蒸积出来,经板状加热片上方设置的靶管引导沉积在基片上,生长厚度由沉积时间决定,系统的温度由测温仪测量,并通过计算机控制。
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