[发明专利]新型含喹喔啉酮结构的方酸菁染料有效
申请号: | 02158975.5 | 申请日: | 2002-12-31 |
公开(公告)号: | CN1511883A | 公开(公告)日: | 2004-07-14 |
发明(设计)人: | 杨小兵;丁松涛;王安邦;杨裕生 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军63971部队 |
主分类号: | C09B25/00 | 分类号: | C09B25/00 |
代理公司: | 中国人民解放军防化研究院专利服务中心 | 代理人: | 刘永盛 |
地址: | 10008*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种新型近红外吸收方酸菁染料,该染料是一种从未见过报道的新化合物,其结构中含有喹喔啉酮杂环,基本结构如上分子式,式中的R1为氢原子、硝基、氨基、单取代氨基、N,N-二烷取代氨基和酰氨基等基团,R2为氢原子、链烃烷基、烷氧基和芳香基团等。该类染料的吸收波长在700~1100nm,其制备方法是通过方酸与前体喹喔啉酮母体环化合物缩合而成,收率高;可应用于激光防护、荧光标记、光电功能材料等领域。 | ||
搜索关键词: | 新型 含喹喔啉酮 结构 方酸菁 染料 | ||
【主权项】:
1.一种方酸菁染料,其特征是方酸菁染料中含喹喔啉酮杂环,化学结构式为:![]()
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