[发明专利]预热反应室有效
申请号: | 02159706.5 | 申请日: | 2002-12-30 |
公开(公告)号: | CN1511973A | 公开(公告)日: | 2004-07-14 |
发明(设计)人: | 郑国顺;姜义堂 | 申请(专利权)人: | 友达光电股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/02 | 分类号: | C23C16/02;H01L21/205;G02F1/133 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 郑玉洁 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种预热反应室,其包括复数个用于承载玻璃基板以进行预热制程的插槽结构,该插槽结构由一底板、一盖板、二侧板、一后背板以及一前面板组成,其中在底板的上表面至少设有一长形支撑块,并在二侧板的内侧表面分别至少设有二支撑块。该长形支撑块以及支撑块可将玻璃基板支撑在其上,使得在长形支撑块与玻璃基板之间具有较大的接触面,以提供较大的摩擦阻力,有效防止玻璃基板受到外力而发生滑动。 | ||
搜索关键词: | 预热 反应 | ||
【主权项】:
1.一种预热反应室,由复数个插槽结构组成,且每一个插槽结构用于承载一片玻璃基板,并对该玻璃基板进行预热,该插槽结构包括有:一底板,在该底板的上表面至少设有一用于支撑玻璃基板的长形支撑块;一盖板,该盖板平行对应于所述底板,并设在所述底板的正上方;二侧板,该二侧板设在插槽结构的两侧,该二侧板的上、下侧边分别与所述底板以及盖板相互结合,且该二侧板在其内侧表面上分别至少设有二个用于支撑所述玻璃基板的支撑块;一后背板,该后背板设在插槽结构的后侧,该后背板的上、下侧边分别与所述底板以及盖板相互结合,且其二侧边分别与所述二侧板互相结合;以及一前面板,该前面板设在插槽结构的前侧,其上、下侧边分别与所述底板以及盖板相互结合,且其二侧边分别与所述二侧板相互结合。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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