[发明专利]玻璃基板在涂布光阻前的清洗方法及装置有效
| 申请号： | 02159707.3 | 申请日： | 2002-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN1512247A | 公开（公告）日： | 2004-07-14 |
| 发明（设计）人： | 陈韦廷;胡万雄;郑鸿毅 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/136 | 分类号： | G02F1/136;B08B11/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郑玉洁 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种玻璃基板在涂布光阻前的清洗方法及装置，用于清洗残留在玻璃基板金属膜表面的有机物与氧化物，清洗步骤包括首先提供一浓度介于0.35％至0.45％之间的碱性显影液，将玻璃基板的金属膜浸泡在该碱性显影液中，再用清水将浸泡后的玻璃基板金属膜洗净，最后再对玻璃基板金属膜的表面进行干燥处理。装置包括一显影液喷嘴，该显影液喷嘴与一显影液供应源相连接，并提供玻璃基板在清洗过程中所需的显影液；一组清水喷嘴，该清水喷嘴连接至一清水供应源，并用于提供玻璃基板在清洗过程中所需的清水；以及一输送带，该输送带用于承载玻璃基板并带动该玻璃基板依序通过显影液喷嘴进行显影液的浸泡，以及通过清水喷嘴进行清水洗净。 | ||
| 搜索关键词： | 玻璃 涂布光阻前 清洗 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种玻璃基板在涂布光阻前的清洗方法，该玻璃基板在其表面形成有一金属膜，在该金属膜的表面残留有有机物以及氧化物，对该有机物与氧化物的清洗步骤包括：提供一碱性显影液；将金属膜浸泡在该碱性显影液中一适当时间；用清水将该浸泡后的金属膜洗净；以及对该金属膜表面进行干燥处理。
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