[发明专利]金属和金属/电介质结构的化学机械抛光用组合物无效
| 申请号： | 02159810.X | 申请日： | 2002-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN1428388A | 公开（公告）日： | 2003-07-09 |
| 发明（设计）人： | L·普佩;G·帕辛;蔡明莳 | 申请（专利权）人： | 拜尔公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘元金,马崇德 |
| 地址： | 联邦德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种组合物，它包含：2.5～70％(体积)30wt％阳离子改性硅溶胶的，其阳离子改性二氧化硅颗粒的平均粒度介于12～300nm；以及0.05～22wt％至少一种氧化剂；且其pH值介于2.5～6，特别适合作为抛光淤浆用于金属和金属/电介质结构的化学机械抛光。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 电介质 结构 化学 机械抛光 组合 | ||
【主权项】：
1.一种组合物，它包含：2.5～70％体积的30wt％阳离子改性硅溶胶的，其阳离子改性二氧化硅颗粒的平均粒度介于12～300nm；以及0.05～22wt％至少一种氧化剂；且其pH值介于2.5～6。
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