[发明专利]形成薄膜的工艺及设备有效
申请号: | 02160876.8 | 申请日: | 2002-12-27 |
公开(公告)号: | CN1430073A | 公开(公告)日: | 2003-07-16 |
发明(设计)人: | 高桥幸弘;三石刚史;新出谦一 | 申请(专利权)人: | 保谷株式会社 |
主分类号: | G02B1/10 | 分类号: | G02B1/10 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王永刚 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供一种形成薄膜的工艺和设备,能够自动地大量形成具有稳定性和良好重复性的光学特性稳定的薄膜。用于气相淀积的材料(4)由电子枪(3)汽化,通过气相淀积在支持在涂覆圆顶(2)中的透镜(2a)上形成抗反射膜。加到电子枪(3)上的电功率按在这样的方式控制,即在膜形成期间由光学膜厚度表(10)连续测得的光的透射或反射的数量接近或与用于存储理论上得到的光的基准数量的装置中存储的光的基准数量的数据相同。 | ||
搜索关键词: | 形成 薄膜 工艺 设备 | ||
【主权项】:
1.一种通过飞扬起膜形成材料并在物品的表面上淀积膜形成材料从而在所述表面上形成所需要薄膜的工艺,包括以下步骤:在膜形成期间由光学膜厚度表连续地测量薄膜的厚度,并在膜形成期间按这样的方式连续地控制飞扬起的膜形成材料的数量,即由光学膜厚度表测量并且表示测量膜厚的光的数量接近或与事先设置的光的基准数量相同,其中进行所需薄膜形成测试,用光学膜厚度表在多个所需波长下得到所形成薄膜的折射率,由所获得的折射率通过理论计算在多个所需波长下得到光的基准数量,并且采用所得到的光的基准数量形成在所需波长下具有所需光学厚度的薄膜,其中A:光学膜厚度表为光学厚度表,利用了当用特定光照射用于形成膜的物品上形成的薄膜时,由薄膜透射或反射的预定波长的光的数量至少依赖于薄膜的厚度和折射率,通过测量透射光或反射光的数量提供薄膜厚度的测量结果;B:在膜形成期间由光学膜厚度表连续测量随着用于形成膜的物品的表面上已形成的薄膜的厚度变化的透射光或反射光的数量或者透射光或反射光数量上的变化;以及C:提供光的基准数量,作为在形成所需要薄膜期间由光学膜厚度表连续测量得到的光的数量或在光的数量上的变化的收集数据。
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