[实用新型]紫外消毒系统水位控制装置无效
| 申请号： | 02203471.4 | 申请日： | 2002-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN2537036Y | 公开（公告）日： | 2003-02-19 |
| 发明（设计）人： | 陈健;章志强 | 申请（专利权）人： | 福建新大陆环保科技有限公司 |
| 主分类号： | G05D9/00 | 分类号： | G05D9/00 |
| 代理公司： | 北京集佳专利商标事务所 | 代理人： | 宋冬涛 |
| 地址： | 350005 福建省福*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 一种紫外消毒系统水位控制装置，包含消毒水渠、溢流槽架设孔和溢流槽。溢流槽镶嵌在紫外线消毒系统的灯架后方靠近水渠末端的位置，兼做消毒系统的出水口，当系统流量增大使水渠内的水面高于槽的上表面时，高于溢流槽顶面的水越过槽的上表面流入槽中，经槽的出水口排入系统的出水渠，使水渠内的水位保持在系统的最高限位水位和最低限位水位之间，达到保持液位的目的，也可以用于其他需要控制液位的系统中。 | ||
| 搜索关键词： | 紫外 消毒 系统 水位 控制 装置 | ||
【主权项】：
1、一种紫外消毒系统水位控制装置，其特征在于：包含消毒水渠(2)、溢流槽架设孔(12)和溢流槽(7)，溢流槽(7)架设在紫外灯架(3)后方靠近消毒水渠(2)末端的位置。兼做消毒系统的出水口。
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