[实用新型]微阵列浮雕积分器件无效
| 申请号： | 02237662.3 | 申请日： | 2002-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN2549478Y | 公开（公告）日： | 2003-05-07 |
| 发明（设计）人： | 余国彬;姚汉民;胡松 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G02B3/08 | 分类号： | G02B3/08;G02B1/04;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人： | 刘秀娟 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 一种适用于深度光刻设备照明系统的微阵列浮雕积分器件微阵列，其两个面均为正六边形的浮雕结构，且两个面上的浮雕图形是通过深度光刻加工而成，它对深度光刻机掩模和硅片间的衍射效应起到很好的平滑作用，同时对照明系统的光进行微分和积分，使达到掩模和硅片面的光能分布得到很高的均匀性，从而提高光刻分辨力；与光栏相配合使用，能改变深度光刻系统的聚光角，更好的起到平滑衍射效应的作用，从而增大线条的高宽比，提高了线条的质量。本实用新型兼有目前几种光学积分器件的优点，同时也克服了其缺点和不足，大大降低了其加工和装配难度，使掩模和硅片上的能量分布是各向同性分布的。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 浮雕 积分 器件 | ||
【主权项】：
1、一种适用于深度光刻设备照明系统的微阵列浮雕积分器件，其特征在于：积分器件的两个面均为正六边形的浮雕结构，且两个面上的浮雕图形是通过深度光刻加工而成。
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