[实用新型]一种平面磁控溅射靶无效
| 申请号： | 02240125.3 | 申请日： | 2002-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN2565842Y | 公开（公告）日： | 2003-08-13 |
| 发明（设计）人： | 申请（专利权）人： | ||
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王凤华 |
| 地址： | 100080 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及的平面磁控溅射靶，包括靶材、磁铁、底座和水冷套，其特征在于，磁铁间隔地与靶材相连接，相邻两磁铁的磁极相反，相邻两磁铁之间的靶材里侧设置有用以冷却靶材的带进、出水管的水冷套，构成一体结构的靶材和磁铁的另一端和底座相连接；磁铁由永磁铁和纯铁组成，纯铁间隔地与靶材相连接；所述水冷套的材质为非导磁材料；靶材的长宽比至少为3；本实用新型具有提高靶材利用率的优点，特别对于贵重金属(金银等)靶材优点更为突出，而且可提高镀膜的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 平面 磁控溅射 | ||
【主权项】：
1、一种平面磁控溅射靶，包括靶材、磁铁、底座和水冷套，其特征在于，磁铁间隔地与靶材相连接，相邻两磁铁的磁极相反，相邻两磁铁之间的靶材里侧设置有用以冷却靶材的带进、出水管的水冷套，构成一体结构的靶材和磁铁的另一端和底座相连接。
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