[实用新型]两点聚焦实现通带平坦化的蚀刻衍射光栅波分复用器件无效
| 申请号： | 02265078.4 | 申请日： | 2002-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN2552259Y | 公开（公告）日： | 2003-05-21 |
| 发明（设计）人： | 文泓桥;石志敏;何赛灵;盛钟延 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | H04B10/12 | 分类号： | H04B10/12;G02B6/26 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人： | 林怀禹 |
| 地址： | 310027 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种两点聚焦实现通带平坦化的蚀刻衍射光栅波分复用器件。它包括输入波导、自由传播区、凹面衍射光栅、输出波导。凹面衍射光栅的结构为由两个子光栅或两个以上的子光栅组成的凹面衍射光栅系统，子光栅A1～An的会聚点为O1，子光栅B1～Bn的会聚点为O2。将O1和O2间的距离调整到一个适当的值，这两个场的叠加就使得像面上的总的场分布由传统的高斯型变为双峰型，从而使器件频谱响应的形状变成平顶形。本实用新型没有引入额外的工艺步骤，并且不增加器件的尺寸，以较小的功率代价使器件具有宽通带、大的1dB带宽的特性。 | ||
| 搜索关键词： | 两点 聚焦 实现 平坦 蚀刻 衍射 光栅 波分复用 器件 | ||
【主权项】：
1.两点聚焦实现通带平坦化的蚀刻衍射光栅波分复用器件，它包括输入波导(1)、自由传播区(2)、凹面衍射光栅、输出波导(4)，其特征在于：凹面衍射光栅(5)的结构为由两个子光栅或两个以上的子光栅组成的凹面衍射光栅系统，子光栅A1～An的会聚点为O1，子光栅B1～Bn的会聚点为O2。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大学，未经浙江大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/02265078.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
