[实用新型]感应耦合等离子体深层刻蚀机无效
| 申请号： | 02267105.6 | 申请日： | 2002-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN2569339Y | 公开（公告）日： | 2003-08-27 |
| 发明（设计）人： | 申请（专利权）人： | ||
| 主分类号： | H01L21/3065 | 分类号： | H01L21/3065;B81C5/00 |
| 代理公司： | 上海浦东良风专利代理有限责任公司 | 代理人： | 陈志良 |
| 地址： | 201204 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型为一种感应耦合等离子体深层刻蚀机，包括主机、射频电源柜、电控柜、计算机及操作台，其特征在于：主机结构核心部件等离子体源，它是由平面变距螺旋形电感线圈与石英介质窗组成一体，当中填充石英粉末和环氧树脂，放置在源的顶部，顶面还有真空室壁，耦合效率高，等离体密度均匀性好，工作压强降到0.06Pa，仍有很高的离化效率，石英介质窗下面安装环形气体流量分配器和高密度等离子体工作室，工作室为圆桶形结构，侧壁为接插式结构，工作室壁周围布有多极场磁铁和极靴组成的多极磁场，通循环水冷却的工件台置于工作室下游，工件台面上安装被加工的晶片，主要用于加工微型机电系统器件，刻蚀有效直径6英寸，具有刻蚀速度快、选择性好、刻蚀均匀，线条边壁陡直，深宽比高，完全满足加工微型机电系统器件的刻蚀工艺需要。 | ||
| 搜索关键词： | 感应 耦合 等离子体 深层 刻蚀 | ||
【主权项】：
1、一种感应耦合等离子体深层刻蚀机，包括主机、射频电源柜、电控柜、计算机及操作台，其特征在于：主机结构核心部件等离子体源，它是由平面变距螺旋形电感线圈与石英介质窗组成一体，当中填充石英粉末和环氧树脂，放置在源的顶部，顶面还有真空室壁，石英介质窗下面安装环形气体流量分配器和高密度等离子体工作室，工作室为圆桶形结构，侧壁为接插式结构，工作室壁周围布有多极场磁铁和极靴组成的多极磁场，通循环水冷却的工件台置于工作室下游，工件台面上安装被加工的晶片。
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