[实用新型]生产磁控溅射热弯镀膜玻璃的装置无效
| 申请号： | 02269514.1 | 申请日： | 2002-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN2573490Y | 公开（公告）日： | 2003-09-17 |
| 发明（设计）人： | 申请（专利权）人： | ||
| 主分类号： | C03C17/00 | 分类号： | C03C17/00;C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 277300 山东省枣庄市*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 一种生产磁控溅射热弯镀膜玻璃的装置，包括真空室和磁控溅射靶，真空室共有三个，分别为真空预抽室(1)、真空镀膜室(2)和过渡室(3)，磁控溅射靶安装在真空镀膜室上盖(8)下面，磁控溅射靶包括：冷却水管(1)，分入水管和出水管，分别与磁控溅射靶靶体的两端相通并焊接连接，靶体(19)内装有极靴(23)及磁铁(24)，靶体下面固定安装有平面条形靶材(20)，其特征在于：真空室玻璃出入口(4)高度为80mm～100mm，真空室高度400mm～480mm；磁控溅射靶为可调升降式结构，磁控溅射靶距输送辊的高度为100mm～160mm。本装置既可镀平面玻璃又可镀热弯玻璃，可防止两种玻璃出现色差。 | ||
| 搜索关键词： | 生产 磁控溅射 镀膜 玻璃 装置 | ||
【主权项】：
1、一种生产磁控溅射热弯镀膜玻璃的装置，包括真空室和磁控溅射靶，真空室共有三个，均为卧式结构，按照玻璃输入方向排列分别为真空预抽室(1)、真空镀膜室(2)和过渡室(3)，磁控溅射靶安装在真空镀膜室上盖(8)下面，磁控溅射靶包括：冷却水管(1)，冷却水管分冷却水入水管和冷却水出水管，两个冷却水管管体分别与磁控溅射靶靶体的两端相通并焊接连接，靶体(19)内装有极靴(23)及磁铁(24)，靶体下面固定安装有平面条形靶材(20)，其特征在于：所述真空室玻璃出入口(4)高度为80mm～100mm，真空室高度400mm～480mm；所述磁控溅射靶距输送辊的高度为100mm～160mm。
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