[实用新型]有机材料高能X射线聚焦组合透镜无效

专利信息
申请号: 02275534.9 申请日: 2002-09-28
公开(公告)号: CN2572716Y 公开(公告)日: 2003-09-10
发明(设计)人: 申请(专利权)人:
主分类号: H05G1/00 分类号: H05G1/00
代理公司: 长春科宇专利代理有限责任公司 代理人: 梁爱荣
地址: 130022 *** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 实用新型涉及有机材料高能X射线聚焦组合透镜,包括衬底基片1,有机物透镜阵列2,电铸阴极薄膜3,掩模吸收体4,空气隙5。衬底基片表面涂覆有机材料涂料,固化,上表面生长金属薄膜作为电铸阴极,电铸阴极上表面涂覆光刻胶,光刻、显影、坚膜、生长金属层作为附着式掩模吸收体,去除光刻胶及其下面的金属薄膜,用准分子激光准直光束直接刻蚀,完成有机材料高能X射线聚焦组合透镜的制作。本实用新型由若干平凹折射单元排列组成。采用准分子激光刻蚀技术,使器件深宽比大,侧壁陡直,尺寸精度高,表面粗糙度低,可制作各种几何形状的截面,易于批量制作及微小型化。用有机材料可降低成本,简化工艺,推动以非金属材料为主体的微结构光学元件的技术发展。
搜索关键词: 有机 材料 高能 射线 聚焦 组合 透镜
【主权项】:
1、有机材料高能X射线聚焦组合透镜,它包括:空气隙(5),其特征在于:还包括有衬底基片(1)、有机物透镜阵列(2)、电铸阴极薄膜(3)、掩模吸收体(4),有机物透镜阵列(2)位于衬底基片(1)的上方并与衬底基片(1)接触,电铸阴极薄膜(3)位于有机物透镜阵列(2)的上方并与有机物透镜阵列(2)接触,掩模吸收体(4)位于电铸阴极薄膜(3)的上方并与电铸阴极薄膜(3)接触,由衬底基片(1)、有机物透镜阵列(2)、电铸阴极薄膜(3)、掩模吸收体(4)形成空气隙(5)。
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