[实用新型]有机材料高能X射线聚焦组合透镜无效
申请号: | 02275534.9 | 申请日: | 2002-09-28 |
公开(公告)号: | CN2572716Y | 公开(公告)日: | 2003-09-10 |
发明(设计)人: | 申请(专利权)人: | ||
主分类号: | H05G1/00 | 分类号: | H05G1/00 |
代理公司: | 长春科宇专利代理有限责任公司 | 代理人: | 梁爱荣 |
地址: | 130022 *** | 国省代码: | 吉林;22 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及有机材料高能X射线聚焦组合透镜,包括衬底基片1,有机物透镜阵列2,电铸阴极薄膜3,掩模吸收体4,空气隙5。衬底基片表面涂覆有机材料涂料,固化,上表面生长金属薄膜作为电铸阴极,电铸阴极上表面涂覆光刻胶,光刻、显影、坚膜、生长金属层作为附着式掩模吸收体,去除光刻胶及其下面的金属薄膜,用准分子激光准直光束直接刻蚀,完成有机材料高能X射线聚焦组合透镜的制作。本实用新型由若干平凹折射单元排列组成。采用准分子激光刻蚀技术,使器件深宽比大,侧壁陡直,尺寸精度高,表面粗糙度低,可制作各种几何形状的截面,易于批量制作及微小型化。用有机材料可降低成本,简化工艺,推动以非金属材料为主体的微结构光学元件的技术发展。 | ||
搜索关键词: | 有机 材料 高能 射线 聚焦 组合 透镜 | ||
【主权项】:
1、有机材料高能X射线聚焦组合透镜,它包括:空气隙(5),其特征在于:还包括有衬底基片(1)、有机物透镜阵列(2)、电铸阴极薄膜(3)、掩模吸收体(4),有机物透镜阵列(2)位于衬底基片(1)的上方并与衬底基片(1)接触,电铸阴极薄膜(3)位于有机物透镜阵列(2)的上方并与有机物透镜阵列(2)接触,掩模吸收体(4)位于电铸阴极薄膜(3)的上方并与电铸阴极薄膜(3)接触,由衬底基片(1)、有机物透镜阵列(2)、电铸阴极薄膜(3)、掩模吸收体(4)形成空气隙(5)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于,未经许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/02275534.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种无需螺丝的机壳装配结构
- 下一篇:防滴漏计量水表
- 同类专利
- 专利分类