[实用新型]激光雕刻机的二维扫描机构无效
| 申请号： | 02279406.9 | 申请日： | 2002-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN2582900Y | 公开（公告）日： | 2003-10-29 |
| 发明（设计）人： | 申请（专利权）人： | ||
| 主分类号： | B44B3/02 | 分类号： | B44B3/02;B44B3/06;H01S3/00 |
| 代理公司： | 武汉开元专利代理有限责任公司 | 代理人： | 刘志菊 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种激光雕刻机的二维扫描机构，主要包括机架、X、Y方向扫描机构、与激光发射系统连接的输入口、聚焦装置，二维扫描机构上有吸附定位机构。其吸附定位机构用真空发生系统与真空吸盘连接，吸盘裙部是由弹性材料制作，吸盘裙口距裙边2～5mm处有加强筋，裙口的直径Φ为30～40mm。二维扫描控制机构由伺服电机驱动。二维扫描机构上有与导光系统连接的激光导入口，激光导入后通过扩束望远镜、折反镜进入激光聚焦装置，聚焦装置的输出焦距是20～60mm。在吸附定位机构与二维扫描机构机架之间有定位调节螺栓。二维扫描机构的扫描范围是X×Y＝60～120×30～60mm。 | ||
| 搜索关键词： | 激光雕刻 二维 扫描 机构 | ||
【主权项】：
1、一种激光雕刻机的二维扫描机构，主要包括机架、X、Y方向扫描机构、与激光发射系统连接的输入口、聚焦装置，其特征是，二维扫描机构上有吸附定位机构。
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