[实用新型]具有多量子阱结构的发光二极管无效

专利信息
申请号: 02289266.4 申请日: 2002-11-22
公开(公告)号: CN2596557Y 公开(公告)日: 2003-12-31
发明(设计)人: 陈弘;于洪波;周均铭;贾海强;韩英军;黄绮 申请(专利权)人: 中国科学院物理研究所
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01S5/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人: 王凤华
地址: 100080 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开一种GaN基多量子阱蓝光发光二极管,该二极管的多量子阱结构包括:p型掺杂的AlGaN层;n型掺杂的AlGaN层;及在AlGaN层之间的由不掺杂的GaN层与不掺杂的InGaN层组成的N个量子阱;还包括在p型掺杂的AlGaN层与N个量子阱之间的不掺杂的GaN隔离层及在n型掺杂的AlGaN层与N个量子阱之间的不掺杂的GaN隔离层,通过合理调整GaN隔离层的厚度,可以有效地调整p-n结的位置,使之位于多量子阱区域,有效增强发光二极管的发光强度。
搜索关键词: 具有 多量 结构 发光二极管
【主权项】:
1、一种具有多量子阱结构的发光二极管,包括多量子阱结构;在所述多量子阱结构之上的p型掺杂的GaN层、透明电极及p型欧姆接触;在所述多量子阱结构之下的n型掺杂的GaN层、GaN缓冲层、n型欧姆接触及衬底;其特征在于:该多量子阱结构包含N个量子阱,该N个量子阱之上形成有不掺杂的第一GaN隔离层,在该N个量子阱之下形成有不掺杂的第二GaN隔离层,该两个GaN隔离层的厚度为大于0nm且小于500nm之间的任意值。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院物理研究所,未经中国科学院物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/02289266.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top