[实用新型]采用电弧加热靶材蒸积制备大面积薄膜的装置

摘要

本实用新型涉及采用电弧加热靶材蒸积制备大面积薄膜的装置。该装置是在真空镀膜设备中设置至少一阳极和放有靶材的阴极，作为阳极的水冷电极上连接有活动接头，并与控制电源相连，该阳极与系统的循环水冷系统相连；电弧触发电极设置在阳极和阴极之间，电弧触发电极的引线穿出真空室外并与电弧触发控制电源电连接。本实用新型克服了靶材掺入到薄膜中而降低膜品质的问题，结构简单、易于操作。所制的薄膜的直径可达2－3英寸，膜厚变化在±7％的范围之内，薄膜的超导转变温度为86－89K，临界电流密度为2－4MA/cm2，X射线衍射分析为C轴取向生长膜。

主权项

1.一种采用电弧加热靶材蒸积制备大面积薄膜的装置，其特征在于：包括：带有石英窗口的真空室、和安装在真空室外两侧与真空室连通的真空机组，真空室内上方安装基片加热器，加热器的下端面放置基片；真空室内还安装有档板和光栏；高压气瓶通过真空室壁上的针阀与真空室连通；控制计算机与控制电源和基片加热器电连接；以及带有红外测温仪；其特征在于：还包括至少在真空室内的上下相对设置至少一对阳极和阴极，作为阴极的铜锅内放有靶材、阳极上连接有活动接头，电弧触发电极设置在阳极和阴极之间，电弧触发电极的引线穿出真空室外并与电弧触发控制电源电连接；水冷阳电极通过活动接头由真空室的上部伸入到真空室中，固定在真空室上部，并与控制电源相连；作为阴极的铜锅及靶材设置在真空室的底部并与水冷底座相连。