[实用新型]利用电流直接加热靶材蒸发制备大面积薄膜的装置无效
申请号: | 02293462.6 | 申请日: | 2002-12-24 |
公开(公告)号: | CN2585869Y | 公开(公告)日: | 2003-11-12 |
发明(设计)人: | 申请(专利权)人: | ||
主分类号: | C23C14/26 | 分类号: | C23C14/26 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王凤华 |
地址: | 100080 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型涉及利用电流直接加热靶材蒸发制备大面积薄膜的装置,该装置在已有的镀膜设备中安装至少一套蒸发靶组件:该蒸发靶组件由一设置在基片加热器下方的支撑架,其上固定一对蒸积出来的靶材进行导流作用的靶管,该支撑架固定在真空室内壁上;真空室底座上设置一水冷电极固定架,水冷管缠绕在水冷电极固定架上,水冷管两端引出真空室外与水冷系统连通;用金属靶材制成的板状加热片,它同时又是蒸发靶安装在和水冷电极上,该板状加热片安装位置与靶管垂直相对;一导电材料制作的水冷电极固定架,它并与加热电源连接,控制计算机与加热电源、测温仪电源连接。该装置结构简单,易于加工,使用方便;制的薄膜面积大,不易污染、性能优良。 | ||
搜索关键词: | 利用 电流 直接 加热 蒸发 制备 大面积 薄膜 装置 | ||
【主权项】:
1.一种利用电流直接加热靶材蒸发制备大面积薄膜的装置,包括:带有石英窗口的真空室、红外测温仪、和安装在真空室外两侧与真空室连通的真空机组,和水冷系统;真空室内上方安装基片加热器、档板和光栏;高压气瓶通过真空室壁上的针阀与真空室连通;控制计算机与控温电源和基片加热器电连接;其特征在于:还包括至少一套蒸发靶组件:该蒸发靶组件由一设置在基片加热器下方的支撑架,其上固定一对蒸积出来的靶材进行导流作用的靶管,该支撑架固定在真空室内壁上;真空室底座上设置一水冷电极固定架,水冷管缠绕在水冷电极固定架上,水冷管两端引出真空室外与水冷系统连通;用金属靶材制成的板状加热片,它同时又是蒸发靶安装在和水冷电极上,该板状加热片安装位置与靶管垂直相对;一导电材料制作的水冷电极固定架,它并与加热电源连接,控制计算机与加热电源、测温仪电源连接。
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