[实用新型]宽谱域低温叠层硅基薄膜太阳电池无效
申请号: | 02294641.1 | 申请日: | 2002-12-30 |
公开(公告)号: | CN2593368Y | 公开(公告)日: | 2003-12-17 |
发明(设计)人: | 耿新华;赵颍;薛俊明 | 申请(专利权)人: | 南开大学 |
主分类号: | H01L31/06 | 分类号: | H01L31/06 |
代理公司: | 天津市学苑有限责任专利代理事务所 | 代理人: | 解松凡 |
地址: | 30007*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本实用新型的名称是宽谱域低温叠层硅基薄膜太阳电池,涉及叠层电池结构的设计,属于太阳电池技术领域。一般的叠层电池或者光电转换效率低,或者工艺复杂,为此本实用新型在设计电池时,在第(1)个pin的N层与第2个pin电池的P层之间加一特殊增反射层,该增反射层只反射第1个pin电池吸收范围的光,透射第2个pin电池吸收范围的光,在第2个电池pin的N层与金属电极之间加另一个增反射层,负责反射第2个pin电池吸收范围的光,这样,可以提高电池的光电转换效率、减薄吸收层厚度,不容易发生光衰退,大大缩短制备时间,降低成本。 | ||
搜索关键词: | 宽谱域 低温 叠层硅基 薄膜 太阳电池 | ||
【主权项】:
1.一种宽谱域低温叠层硅基薄膜太阳电池,由两个硅基薄膜太阳电池叠加构成,其特征在于:第1个pin是宽带隙硅基薄膜电池(如非晶硅、钠米硅、炭化硅、氮化硅等),第2个pin是窄带隙硅基薄膜电池(如微晶硅、多晶硅、微晶硅锗等),第1个宽带隙硅基薄膜电池的pin结构沉积在透明导电衬底(3)上,在其N(7)层上沉积导电增反射层R1(11),随即沉积第2个窄带隙硅基薄膜电池的pin结构,在其N层上沉积导电增反射层R2(12),在R2层上沉积金属Ag和Al电极(8)(9)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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