[实用新型]宽谱域低温叠层硅基薄膜太阳电池无效

专利信息
申请号: 02294641.1 申请日: 2002-12-30
公开(公告)号: CN2593368Y 公开(公告)日: 2003-12-17
发明(设计)人: 耿新华;赵颍;薛俊明 申请(专利权)人: 南开大学
主分类号: H01L31/06 分类号: H01L31/06
代理公司: 天津市学苑有限责任专利代理事务所 代理人: 解松凡
地址: 30007*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 实用新型的名称是宽谱域低温叠层硅基薄膜太阳电池,涉及叠层电池结构的设计,属于太阳电池技术领域。一般的叠层电池或者光电转换效率低,或者工艺复杂,为此本实用新型在设计电池时,在第(1)个pin的N层与第2个pin电池的P层之间加一特殊增反射层,该增反射层只反射第1个pin电池吸收范围的光,透射第2个pin电池吸收范围的光,在第2个电池pin的N层与金属电极之间加另一个增反射层,负责反射第2个pin电池吸收范围的光,这样,可以提高电池的光电转换效率、减薄吸收层厚度,不容易发生光衰退,大大缩短制备时间,降低成本。
搜索关键词: 宽谱域 低温 叠层硅基 薄膜 太阳电池
【主权项】:
1.一种宽谱域低温叠层硅基薄膜太阳电池,由两个硅基薄膜太阳电池叠加构成,其特征在于:第1个pin是宽带隙硅基薄膜电池(如非晶硅、钠米硅、炭化硅、氮化硅等),第2个pin是窄带隙硅基薄膜电池(如微晶硅、多晶硅、微晶硅锗等),第1个宽带隙硅基薄膜电池的pin结构沉积在透明导电衬底(3)上,在其N(7)层上沉积导电增反射层R1(11),随即沉积第2个窄带隙硅基薄膜电池的pin结构,在其N层上沉积导电增反射层R2(12),在R2层上沉积金属Ag和Al电极(8)(9)。
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