[发明专利]发光装置及其制造方法有效
| 申请号： | 02800098.6 | 申请日： | 2002-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN1456026A | 公开（公告）日： | 2003-11-12 |
| 发明（设计）人： | 平野贵之 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | H05B33/26 | 分类号： | H05B33/26;H05B33/14;H05B33/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 曾祥凌 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种制作顶发射形发光装置的方法，能保持稳定发光效率且无漏电流。该发光装置(10)包括置于衬底(1)上的下电极(4)、置于下电极(4)上的至少有一个发光层(6c)的有机层(6)、和置于有机层(6)上的透光上电极(7)。在该发光装置(10)中，下电极(4)有两层结构，包括金属材料层(2c)和置于金属材料层上的缓冲薄膜层(3c)。缓冲薄膜层(3c)由构成金属材料层(2c)的金属材料的氧化物中电导率比有机层(6)高的材料或铬的氧化物制成。因此，做成由缓冲薄膜层(3c)而使金属材料层(2c)的表面粗糙度得到缓和的二层结构，保证了下电极(4)和透光的上电极(7)之间间隔的均一性。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种发光装置，包括一置于衬底上的下电极、一包含有放置于下电极上的至少一个发光层的有机层及一置于所述有机层上而透光的上电极，其特征在于，所述下电极是包括有金属材料层和在该金属材料层上形成的缓冲薄膜层的成层结构，所述缓冲薄膜由构成金属材料层的金属材料的任何氧化物制成，所述氧化物的电导率高于所述有机层。
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