[发明专利]光学记录介质及其生产方法无效

专利信息
申请号: 02800776.X 申请日: 2002-02-18
公开(公告)号: CN1460256A 公开(公告)日: 2003-12-03
发明(设计)人: 饭村绅一郎;小川博司 申请(专利权)人: 索尼株式会社
主分类号: G11B7/24 分类号: G11B7/24;G11B7/26;G11B11/105
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 李德山
地址: 暂无信息 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种光学记录介质(1),该光学记录介质被配置成在一基片(2)上连续地层叠至少一反射膜(3)和一保护膜(4),并且光从保护膜(4)一侧进行照射,从而实现信息信号的再现,其中在反射膜(3)处沿轨迹形成凹槽(5)或相应于信息信号的压印凹痕(6)。
搜索关键词: 光学 记录 介质 及其 生产 方法
【主权项】:
1.一种光学记录介质,其中在一基片上连续地层叠至少一反射膜和一保护膜,并且光从保护膜一侧进行照射,以便实现信息信号的再现,其中在反射膜处沿轨迹方向形成与信息信号相应的压印凹痕。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于索尼株式会社,未经索尼株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/02800776.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top