[发明专利]含有酞菁化合物的有色成像组合物、油墨、喷墨油墨、喷墨记录方法、和臭氧褪色耐性的提高方法有效

专利信息
申请号: 02802203.3 申请日: 2002-06-21
公开(公告)号: CN1738875A 公开(公告)日: 2006-02-22
发明(设计)人: 立石桂一;野吕正树;矢吹嘉治;大松祯 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: C09D11/00 分类号: C09D11/00;C09B47/20;B41M5/00;B41J2/01
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 于辉
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种油墨,特征在于它含有选自通式(I)、(II)、(III)和(IV)所代表的酞菁化合物的至少一种化合物,并具有作为三种主要色彩的染料的色彩再现性优异的吸收特性,并具有足够的耐环境中的光、热、湿度和活性气体的牢固性,因此可以得到具有优异色彩和牢固性的有色图像或有色材料。该油墨可用于各种着色组合物如喷墨打印用的油墨组合物、热转印成像材料的油墨片、电子照相调色剂、LCD、PDP和CCD中滤色片用的着色组合物、以及用于各种纤维染色用的染色浴。
搜索关键词: 含有 化合物 有色 成像 组合 油墨 喷墨 记录 方法 臭氧 褪色 耐性 提高
【主权项】:
1、一种油墨,特征在于它含有选自下面通式(I)、(II)、(III)和(IV)所代表的酞菁化合物的至少一种化合物:通式(I)在通式(I)中,X1、X2、X3和X4各自独立地代表-SO-Z和/或-SO2-Z,其中Z各自独立地代表取代或未取代的烷基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的链烯基、取代或未取代的芳烷基、取代或未取代的芳基、或者取代或未取代的杂环基,Y1、Y2、Y3和Y4各自独立地代表氢原子、卤原子、烷基、环烷基、链烯基、芳烷基、芳基、杂环基、氰基、羟基、硝基、氨基、烷基氨基、烷氧基、芳氧基、酰氨基、芳基氨基、脲基、氨磺酰氨基、烷硫基、芳硫基、烷氧基羰基氨基、磺酰胺基团、氨基甲酰基、烷氧基羰基、杂环氧基、偶氮基、酰氧基、氨基甲酰氧基、甲硅烷氧基、芳氧基羰基、芳氧基羰基氨基、亚氨基、杂环硫基、磷酰基或酰基,并且每一基团可以进一步取代,条件是X1、X2、X3、X4、Y1、Y2、Y3和Y4中至少一个代表一个有2个或多个碳原子的取代基,并且X1、X2、X3、X4、Y1、Y2、Y3和Y4所代表的这些取代基的碳原子总数是8个或更多,a1-a4、和b1-b4各自代表X1-X4和Y1-Y4的取代基的数量;a1-a4各自独立地代表0-4的整数,条件是它们所有不同时是0;并且b1-b4各自独立地代表0-4的整数,和M代表氢原子、金属元素、或其氧化物、氢氧化物或卤化物,通式(II)在通式(II)中,R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8各自独立地代表氢原子、卤原子、烷基、环烷基、链烯基、芳烷基、芳基、杂环基、氰基、羟基、硝基、氨基、烷基氨基、烷氧基、芳氧基、酰氨基、芳基氨基、脲基、氨磺酰氨基、烷硫基、芳硫基、烷氧基羰基氨基、磺酰胺基团、氨基甲酰基、氨磺酰基团、烷氧基羰基、杂环氧基、偶氮基、酰氧基、氨基甲酰氧基、甲硅烷氧基、芳氧基羰基、芳氧基羰基氨基、亚氨基、杂环硫基、磷酰基或酰基;并且每一基团可以进一步取代,R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17和R18各自独立地代表氢原子、卤原子、或取代的氨磺酰基团,条件是,就R11和R12、R13和R14、R15和R16、以及R17和R18各自而言,至少一个代表取代的氨磺酰基团,并且这四个或多个取代的氨磺酰基团中至少一个代表一个有2个或多个碳原子的取代基,并且R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17和R18所代表的这些取代基的碳原子总数是8个或更多,M代表氢原子、金属元素、金属氧化物、金属氢氧化物或金属卤化物,通式(III)在通式(III)中,R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8各自独立地代表氢原子、卤原子、烷基、环烷基、链烯基、芳烷基、芳基、杂环基、氰基、羟基、硝基、氨基、烷基氨基、烷氧基、芳氧基、酰氨基、芳基氨基、脲基、氨磺酰氨基、烷硫基、芳硫基、烷氧基羰基氨基、磺酰胺基团、氨基甲酰基、氨磺酰基团、烷氧基羰基、杂环氧基、偶氮基、酰氧基、氨基甲酰氧基、甲硅烷氧基、芳氧基羰基、芳氧基羰基氨基、亚氨基、杂环硫基、磷酰基或酰基;并且每一基团可以进一步取代,Z1、Z2、Z3和Z4各自独立地代表取代或未取代的杂环基,Z1、Z2、Z3、Z4、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8中至少一个具有一个有2个或多个碳原子的取代基,并且在Z1、Z2、Z3、Z4、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8中取代的取代基的碳原子总数是8个或更多,lmnp各自独立地代表1或2的整数,M代表氢原子、金属元素、金属氧化物、金属氢氧化物或金属卤化物,和通式(IV)在通式(IV)中,R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8各自独立地代表氢原子、卤原子、烷基、环烷基、链烯基、芳烷基、芳基、杂环基、氰基、羟基、硝基、氨基、烷基氨基、烷氧基、芳氧基、酰氨基、芳基氨基、脲基、氨磺酰氨基、烷硫基、芳硫基、烷氧基羰基氨基、磺酰胺基团、氨基甲酰基、氨磺酰基团、烷氧基羰基、杂环氧基、偶氮基、酰氧基、氨基甲酰氧基、甲硅烷氧基、芳氧基羰基、芳氧基羰基氨基、亚氨基、杂环硫基、磷酰基或酰基;并且每一基团可以进一步取代,W1、W2、W3和W4各自独立地代表形成含氮杂环或所述杂环与其它环的稠环所需的原子团,条件是由W1、W2、W3和W4形成的至少一个杂环具有一个有2个或多个碳原子的取代基,并且在由W1、W2、W3和W4所代表的基团中进一步取代的取代基的碳原子总数是8个或更多,lmnp各自独立地代表1或2的整数,和M代表氢原子、金属元素、金属氧化物、金属氢氧化物或金属卤化物。
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