[发明专利]含取代吡唑衍生物为活性成分的除草剂无效
申请号: | 02802418.4 | 申请日: | 2002-07-11 |
公开(公告)号: | CN1464772A | 公开(公告)日: | 2003-12-31 |
发明(设计)人: | 广原洋司;生田英二;木村卓生 | 申请(专利权)人: | 株式会社SDS生技 |
主分类号: | A01N43/56 | 分类号: | A01N43/56 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 朱黎明 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种含有下式(I)表示的取代的吡唑衍生物作为活性成分的除草剂组合物,更确切地说,该除草剂组合物具有宽除草谱,可以小剂量使用,对某些重要的农作物表现出足够的安全性。本发明的含有下式(I)表示的取代的吡唑衍生物作为活性成分的除草剂组合物具有宽除草谱,即使以小剂量使用也表现出良好的除草效果,并对一些重要农作物例如水稻、小麦和大豆表现出足够的安全性。 | ||
搜索关键词: | 取代 吡唑 衍生物 活性 成分 除草剂 | ||
【主权项】:
1.一种除草剂组合物,它含有一种或多种由下式(I)表示的取代的吡唑衍生物作为活性成分:其中X是R1OOC、R1HNOC、R1R1NOC、氰基或5元或6元芳香杂环基,W是1-3个碳原子的亚烷基或NR1,R是1-4个碳原子的低级烷基或1-4个碳原子的低级卤代烷基,A、B和D可以相同或不同,各为氢原子、卤原子或选自R1、R1O、R1S、R1SO、R1SO2、(R1)2N、R1OOC、R1OR2、R1ON=CH、氰基、硝基、2-4个碳原子的低级烯基、2-4个碳原子的低级炔基、3-7个碳原子的环烷基、Ph、PhCH2、PhO、PhCH2O、PhOR2、PhS、PhCH2S、PhSR2、PhCH2ON=CH、Naph和Het的基团,条件是A、B和D不同时为氢原子,而且A、B和D不同时为芳基或芳杂环基团;R1是1-4个碳原子的低级烷基,或1-4个碳原子的低级卤代烷基;R2是1-4个碳原子的低级亚烷基;Ph是未取代或取代的苯基;Naph是未取代或取代的萘基;Het是未取代或取代的、5元或6元芳杂环基团。
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