[发明专利]具有优异端面绝缘的铁心和处理铁心端面以得到绝缘涂层的方法有效
申请号: | 02803133.4 | 申请日: | 2002-10-04 |
公开(公告)号: | CN1476488A | 公开(公告)日: | 2004-02-18 |
发明(设计)人: | 熊野知二;开道力;藤井浩康;东根和隆;田中收;藤井宣宪;半泽和文;田中正义;久保祐治;山田纪子 | 申请(专利权)人: | 新日本制铁株式会社;日铁机械设备设计株式会社 |
主分类号: | C23C18/02 | 分类号: | C23C18/02;H02K15/02 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 林柏楠;刘金辉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种在铁心端面上具有包含属于说明书限定为有机硅聚合物的纯有机硅聚合物、改性有机硅聚合物和/或混合有机硅聚合物的干燥的涂膜并具有至少0.5μm平均膜厚度、至少30V击穿电压和至少400℃空气中耐热性的绝缘涂层的一种铁心;和生产该铁心的方法,包括形成铁心,然后使用一种或多种的纯有机硅聚合物、改性有机硅聚合物和/或混合有机硅聚合物对铁心进行浸渍或喷涂处理。该铁心在绝缘性能、耐腐蚀性、涂层对基础磁铁的粘合性、耐热性和磁性的改进效果等方面极其优异,该方法使得在低温和短时间内进行铁心的绝缘处理,无需例如脱气、退火等的预处理。 | ||
搜索关键词: | 具有 优异 端面 绝缘 铁心 处理 得到 涂层 方法 | ||
【主权项】:
1.具有优异端面绝缘的铁心,其特征在于铁心的端面经过处理以得到含有至少30%重量的已转化成SiO2的硅化合物的具有至少0.5μm平均膜厚度的绝缘涂层。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
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