[发明专利]图案化方法及装置、膜形成方法及装置、电光学装置及其制法有效
申请号: | 02803179.2 | 申请日: | 2002-09-12 |
公开(公告)号: | CN1476737A | 公开(公告)日: | 2004-02-18 |
发明(设计)人: | 宫泽贵士 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | H05B33/10 | 分类号: | H05B33/10;H05B33/14;B41J2/01 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李香兰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供一种材料选择自由度高的新颖的图案化方法,同时提供一种膜形成方法、图案化装置、膜形成装置、电光学装置及其制造方法、电子仪器、和电子装置及其制造方法。具备能调整到高真空度的真空腔室(2),与材料供给源(7)连接并安装在真空腔室(2)上、向该真空腔室(2)内供给材料供给源(7)中材料的喷嘴(3),和设置在真空腔室(2)内保持固定基体S的基体载物台(4)构成的图案化装置(1)。在喷嘴(3)或基体载物台(4)上设有使其相对位置移动的移动机构(11)。理想上最好生成材料分子的自由喷射,利用这种自由喷射图案化(自由喷射图案化)。这样更高精度的图案化成为可能。 | ||
搜索关键词: | 图案 方法 装置 形成 光学 及其 制法 | ||
【主权项】:
1、一种图案化方法,其特征在于:将基体配置在被调整到高真空度的真空气氛中,由与材料供给源连接的喷嘴向上述真空气氛中喷出材料,在上述基体上形成由上述材料组成的图案。
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