[发明专利]图案化方法及装置、膜形成方法及装置、电光学装置及其制法有效

专利信息
申请号: 02803179.2 申请日: 2002-09-12
公开(公告)号: CN1476737A 公开(公告)日: 2004-02-18
发明(设计)人: 宫泽贵士 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: H05B33/10 分类号: H05B33/10;H05B33/14;B41J2/01
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李香兰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种材料选择自由度高的新颖的图案化方法,同时提供一种膜形成方法、图案化装置、膜形成装置、电光学装置及其制造方法、电子仪器、和电子装置及其制造方法。具备能调整到高真空度的真空腔室(2),与材料供给源(7)连接并安装在真空腔室(2)上、向该真空腔室(2)内供给材料供给源(7)中材料的喷嘴(3),和设置在真空腔室(2)内保持固定基体S的基体载物台(4)构成的图案化装置(1)。在喷嘴(3)或基体载物台(4)上设有使其相对位置移动的移动机构(11)。理想上最好生成材料分子的自由喷射,利用这种自由喷射图案化(自由喷射图案化)。这样更高精度的图案化成为可能。
搜索关键词: 图案 方法 装置 形成 光学 及其 制法
【主权项】:
1、一种图案化方法,其特征在于:将基体配置在被调整到高真空度的真空气氛中,由与材料供给源连接的喷嘴向上述真空气氛中喷出材料,在上述基体上形成由上述材料组成的图案。
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