[发明专利]ITO溅射靶用氧化锡粉末、该粉末的制造方法、用于形成ITO膜的烧结体溅射靶及该靶的制造方法有效
| 申请号： | 02803276.4 | 申请日： | 2002-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN1633516A | 公开（公告）日： | 2005-06-29 |
| 发明（设计）人： | 古仲充之;栗原敏也 | 申请（专利权）人： | 株式会社日矿材料 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C01G19/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王维玉;丁业平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供ITO溅射靶用氧化锡粉末，其特征在于，由粒度分布求得的中径在0.40～1.0μm的范围内，且从粒度分布求得的90％粒径在3.0μm以下的范围内。本发明还提供可以得到具有优良的适合形成ITO薄膜的高密度化和成分均匀性的烧结体的氧化锡粉末及使用该粉末烧结的用于形成ITO膜的溅射靶，由此可以以低成本提供用于形成ITO膜的氧化锡－氧化铟靶，该靶可以抑制在形成ITO薄膜时产生小结等或其引起的质量下降。 | ||
| 搜索关键词： | ito 溅射 氧化 粉末 制造 方法 用于 形成 烧结 | ||
【主权项】：
1.ITO溅射靶用氧化锡粉末，其特征在于，从粒度分布求得的中径在0.40～1.0μm的范围内，且从粒度分布求得的90％粒径在3.0μm以下的范围内。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日矿材料，未经株式会社日矿材料许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/02803276.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：冲洗液及其使用方法
- 下一篇：具有短裤形状的吸收性物品的生产方法
- 同类专利
- 专利分类
