[发明专利]等离子体装置及等离子体生成方法无效
| 申请号： | 02803904.1 | 申请日： | 2002-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN1537406A | 公开（公告）日： | 2004-10-13 |
| 发明（设计）人： | 安藤真;高桥応明;石井信雄 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社;安藤真;高桥応明 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;H01L21/3065;H01L21/205;C23C16/505 |
| 代理公司： | 北京东方亿思专利代理有限责任公司 | 代理人： | 陆锦华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种等离子体装置，包括将通过馈电部供给的高频电磁场(F)供给到处理容器(11)内的缝隙天线(30)，所述馈电部具有谐振腔(35)，所述谐振腔构成谐振器，同时将馈电的高频电磁场(F)变换成旋转电磁场并供给所述缝隙天线(30)。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 装置 生成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体装置，具有将通过馈电部供给的高频电磁场供给到处理容器内的缝隙天线，其特征在于，所述馈电部具有谐振腔，所述谐振腔构成谐振器，同时，将馈电的高频电磁场变换成旋转电磁场并供给所述缝隙天线。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社;安藤真;高桥応明，未经东京毅力科创株式会社;安藤真;高桥応明许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/02803904.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：定中心装置
- 下一篇：投影系统中光学元件的装置
