[发明专利]用于金属化学机械抛光的催化性反应垫无效
| 申请号： | 02803949.1 | 申请日： | 2002-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN1487867A | 公开（公告）日： | 2004-04-07 |
| 发明（设计）人： | 史蒂文·K·格鲁宾;克里斯托弗·C·斯特莱因茨;布赖恩·L·米勒 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24D3/34;B24D13/14;C23F3/06;C09G1/02;H01L21/321 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 范明娥;张平元 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明是关于一种包含抛光垫基材及具有多重氧化态的催化剂的抛光垫，其中含催化剂的抛光垫与氧化剂配合，以化学机械抛光与集成电路及其它电子组件有关的金属件。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 金属 化学 机械抛光 催化 反应 | ||
【主权项】：
1.一种用于化学机械抛光的抛光垫，包括：a)抛光垫基材；及b)至少一种具有多重氧化态的催化剂。
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