[发明专利]用于生产光学信息介质用光刻胶母模和印模的方法

摘要

本发明提供一种用于生产适于制造光学信息介质的光刻胶母模的方法。该方法能形成具有最小宽度的精细图形，所述最小宽度约为曝光所用波长的一半，并且在该方法中，抑制了图形高度的降低并改善了图形轮廓的锥形。该方法中包括以下步骤：在衬底上涂布一光刻胶层，将光刻胶层曝光在一激光束下以便在光刻胶层中形成一潜影，显影潜影以便形成一凸凹图形，由此生产光刻胶母模；并且在该方法中，在衬底和光刻胶之间形成一吸光层并与光刻胶层接触，吸光层在上述激光束的波长处显示光吸收作用。

主权项

1.一种用于生产光学信息介质用光刻胶母模的方法包括以下步骤：在一个衬底上涂布一光刻胶层，将光刻胶层曝光在一激光束下，以便在光刻胶层中形成一个潜影，及将上述潜影显影以便形成一个凸/凹图形，由此生产光刻胶母模；其中在上述衬底和上述光刻胶之间形成一吸光层，并与上述光刻胶层接触，所述吸光层在上述激光束波长处显示光吸收作用。