[发明专利]X光产生装置无效

专利信息
申请号: 02805984.0 申请日: 2002-08-29
公开(公告)号: CN1535559A 公开(公告)日: 2004-10-06
发明(设计)人: 下野隆 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H05G1/00 分类号: H05G1/00;H05G1/70
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 李家麟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明之X光产生装置具有:一阴极电极15、一用以控制该阴极电极15所生电子束e之栅极电极17、一用以集束该电子束e之聚焦电极18、以及一藉由电子束e之撞击而放出X光之阳极靶材14。在阴极电极15和栅极电极17之间,受施加有一来自偏压电压产生部20之偏压电压Vb。阳极靶材14受施加一来自管电压产生部19之管电压Vt。分压部31对管电压Vt进行分压,而产生聚焦电压Vf。藉由将如此而得之聚焦电压Vf施加至聚焦电极18上,将可以抑制电压变动对于电子束之焦点形成所造成的影响。
搜索关键词: 产生 装置
【主权项】:
1.一种X光产生装置,其特征在于,具有:一阴极电极,用以产生电子束;一栅极电极,用以控制该阴极电极所发生之该电子束流;一聚焦电极,用以使该电子束集束;一阳极靶材,用以藉由该聚焦电极所集束得之该电子束之撞击,而放出X光;一偏压电压产生部,用以产生一供施加至该阴极电极与该栅极电极间之偏压电压;一管电压产生部,用以产生一供施加至该阳极靶材之管电压;以及一分压部,用以对该管电压进行分压而产生聚焦电压,再将该聚焦电压施加至该聚焦电极。
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