[发明专利]新共聚物及光致抗蚀组合物无效
| 申请号： | 02806936.6 | 申请日： | 2002-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN1498361A | 公开（公告）日： | 2004-05-19 |
| 发明（设计）人： | G·G·巴克雷;R·J·卡瓦纳 | 申请（专利权）人： | 希普雷公司 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;C08F20/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明包括聚合物和以该聚合物作为树脂基料成分的光致抗蚀组合物。本发明聚合物包含羟金刚烷基官能度。本发明光致抗蚀剂包括可在短波长如亚－200纳米，特别是193纳米辐射下有效成象的化学放大正型抗蚀剂。 | ||
| 搜索关键词： | 共聚物 光致抗蚀 组合 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀组合物，该组合物包含光活性成分和包含羟金刚烷基单元的树脂。
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