[发明专利]包括吡唑啉酮衍生物的染发组合物及其应用无效
| 申请号： | 02807265.0 | 申请日： | 2002-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN1499953A | 公开（公告）日： | 2004-05-26 |
| 发明（设计）人： | 詹姆斯·C·邓巴;多米尼克·普拉特;德利思·A·詹姆斯 | 申请（专利权）人： | 宝洁公司 |
| 主分类号： | A61K7/13 | 分类号： | A61K7/13 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 封新琴;巫肖南 |
| 地址： | 美国俄亥俄*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了染发组合物，所述组合物包括一种或多种显色剂和一种或多种偶合剂，所述显色剂选自氨基芳系，所述氨基芳系能被氧化并继而可发生至少两次亲电子攻击反应，所述偶合剂选自式(I)的化合物：其中X为非离去取代基，Z为活性离去基团，Y为活性离去基团或非离去取代基，以使当存在氧化剂时，所述或各种显色剂与所述或各种偶合剂基本上仅在具有活性离去基团Z的部位和，如果Y为活性离去基团，Y的部位发生反应，条件是如果X为苯基，那么Y就不是乙基或甲基。本说明书还公开了包括显色剂和具有式(I)的具体化合物的组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 吡唑 衍生物 染发 组合 及其 应用 | ||
【主权项】：
1.染发组合物，所述组合物包括一种或多种显色剂和一种或多种偶合剂，所述显色剂选自氨基芳系，所述氨基芳系能被氧化并继而发生至少两次亲电子攻击反应，所述偶合剂选自具有下式(I)的化合物：其中X为非离去取代基，Z为活性离去基团，Y为活性离去基团或非离去取代基，以使当存在氧化剂时，所述或各种显色剂与所述或各种偶合剂基本上仅在具有活性离去基团Z的部位和，如果Y为活性离去基团，Y的部位发生反应，条件是如果X为苯基，那么Y就不是乙基或甲基。
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