[发明专利]等离子体表面处理的方法以及实现该方法的设备无效
| 申请号： | 02807383.5 | 申请日： | 2002-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN1511333A | 公开（公告）日： | 2004-07-07 |
| 发明（设计）人： | 帕维尔·库里克;米克海尔·萨姆索诺夫;亚历山大·切列帕诺夫;叶夫根尼·彼得罗夫 | 申请（专利权）人： | APIT股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明涉及一种等离子体表面处理方法，用于待处理对象或粒子的表面，包括制造等离子体，将等离子体应用到待处理表面，本发明方法的特征在于待处理表面被激励或者等离子体被声频地振动，使得待处理表面和等离子体之间产生相对波动。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 表面 处理 方法 以及 实现 设备 | ||
【主权项】：
1.对象的待处理表面的等离子体处理方法，包括制造等离子体，将等离子体应用到待处理表面，其特征在于待处理表面被激励或者等离子体被声频地振动，使得待处理表面和等离子体之间产生波形运动。
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