[发明专利]在衬底上形成图案的方法以及利用该方法制作液晶显示器的方法无效
申请号: | 02807476.9 | 申请日: | 2002-03-05 |
公开(公告)号: | CN1500227A | 公开(公告)日: | 2004-05-26 |
发明(设计)人: | 卓英美;朴云用;李庭镐;洪雯杓;丁奎夏 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 李晓舒;魏晓刚 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明涉及一种在衬底上形成图案的方法以及利用该方法制作液晶显示板的方法。为了减少压合缺陷,各个图案层的拍摄区边界线彼此不重叠以分散。具体地说,根据本发明形成图案的方法,在首先形成第一材料层之后,通过在第一材料层上执行第一光蚀刻形成第一图案,其中第一光蚀刻包括对在至少一个拍摄区边界线两侧的至少两个区域进行分区曝光。随后,在第一图案上形成第二材料层之后,通过在第二材料层上执行第二光蚀刻形成一个第二图案,其中第二光蚀刻包括对在至少一个拍摄区边界线两侧的至少两个拍摄区进行分区曝光,在第二光蚀刻中的至少一个拍摄区边界线与第一光蚀刻中的至少一个拍摄区边界线隔开。通过利用此形成方法制作一种液晶显示板。 | ||
搜索关键词: | 衬底 形成 图案 方法 以及 利用 制作 液晶显示器 | ||
【主权项】:
1.一种形成图案的方法,包括:形成第一材料层;通过在第一材料层上执行第一光蚀刻形成第一图案,其中第一光蚀刻包括对在至少一个拍摄区边界线两侧的至少两个区域进行分区曝光;在第一图案上形成第二材料层;以及通过在第二材料层上执行第二光蚀刻形成第二图案,其中第二光蚀刻包括对在至少一个拍摄区边界线两侧的至少两个拍摄区进行分区曝光,第二光蚀刻中的至少一个拍摄区边界线与第一光蚀刻中的至少一个拍摄区边界线隔开。
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