[发明专利]扩散器和快速循环腔室有效
| 申请号： | 02807535.8 | 申请日： | 2002-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN1531741A | 公开（公告）日： | 2004-09-22 |
| 发明（设计）人： | 哈伦·I·哈尔西;戴维·E·雅各布 | 申请（专利权）人： | 拉姆研究公司 |
| 主分类号： | H01L21/00 | 分类号： | H01L21/00;C23C16/44;C23F4/00;C30B35/00;B01J3/02 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陈坚 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了一种扩散器(200)和用来排放和/或泵吸气体的腔室。该扩散器(200)包括本体(202)、反射体(204)和一组叶片(210，212)。该本体(200)包括穿过中心部分的喷嘴并且在上侧具有曲面，以限定在该曲面上的敞开空间。该反射体(204)设置在该喷嘴上并且布置成能够将气体从该喷嘴反射进入在本体(202)内的敞开空间，同时使气流扩散。叶片(210，212)进一步将气流分成大致相等的部分。在该结构中，气流在喷嘴、反射体部分(204)以及在叶片(210，212)之间的本体(202)内的敞开空间内得以减速，从而气体以基本一致的低速流出该敞开空间。 | ||
| 搜索关键词： | 扩散器 快速 循环 | ||
【主权项】：
1、一种扩散器，包括：本体，其具有穿过中心部分的喷嘴，该本体在上侧具有曲面，以限定在该曲面上的敞开空间，其中该喷嘴布置成能够允许气体流过并在喷嘴内扩散；反射体，其设置在该喷嘴上并且布置成能够将气体从该喷嘴反射进入在本体内的敞开空间，同时使气流扩散，其中该喷嘴、反射体和敞开空间构造成能够使气流减速，从而气体以基本上一致或者其他想要的不一致的低速流出该敞开空间。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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