[发明专利]用于产生远紫外线辐射或软X射线辐射的方法和装置有效

专利信息
申请号: 02807601.X 申请日: 2002-03-21
公开(公告)号: CN1500369A 公开(公告)日: 2004-05-26
发明(设计)人: W·内夫;K·博格曼;O·罗西尔;J·潘克特 申请(专利权)人: 弗劳恩霍弗实用研究促进协会;皇家菲利浦电子有限公司
主分类号: H05G2/00 分类号: H05G2/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 程天正;张志醒
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 借助气体放电产生远紫外线辐射/软X射线辐射的方法,尤其被用于EUV光刻术,其中,在放电室(11)内给两个电极施加高电压,在所述的两个电极之间,根据在帕申曲线的左支路上进行的放电工作而在两个同轴电极开孔(12,13)的区域内提供一种具有预定气压的气体填充,在该气体填充当中通过输入能量而构造发出辐射的等离子体(10),其特征在于:所述的等离子体(10)在所述的电极开孔(12,13)的区域内借助气体填充的压力变化而被偏移。
搜索关键词: 用于 产生 紫外线 辐射 射线 方法 装置
【主权项】:
1.用于借助气体放电产生远紫外线辐射/软X射线辐射的方法,尤其被用于EUV光刻术,其中,在放电室(11)内给两个电极施加高电压,在所述的两个电极之间,根据在帕申曲线的左支路上进行的放电工作而在两个同轴电极开孔(12,13)的区域内提供一种具有预定气压的气体填充,在该气体填充当中通过输入能量而构造发出辐射的等离子体(10),其特征在于:所述的等离子体(10)在所述的电极开孔(12,13)的区域内借助气体填充的压力梯度而被偏移和/或成形。
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