[发明专利]可变效率的法拉第屏蔽无效
| 申请号： | 02808264.8 | 申请日： | 2002-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN1503856A | 公开（公告）日： | 2004-06-09 |
| 发明（设计）人： | M·F·戴维斯;F·胡施达郎 | 申请（专利权）人： | 应用材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/00 | 分类号： | C23C16/00;C23F1/02 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵蓉民 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于等离子体反应器(930)的法拉第屏蔽(300)具有可变的屏蔽效率。该屏蔽(300)被分成许多可以单独选择接地或非接地的屏蔽片段(320)。完全非接地和完全接地状态之间转变的速率是可控的，从而在转变过程中保持等离子反应器(930)中稳定的等离子环境。一旦完成等离子体撞击，或使其能够受制于之前屏蔽设置的成功匹配，屏蔽效率改变的时间速率就可控制在预定的速率。当法拉第屏蔽(320)完全接地时，通过降低室表面的溅射率从而降低了晶片上和室表面上的污染量。 | ||
| 搜索关键词： | 可变 效率 法拉第 屏蔽 | ||
【主权项】：
1.一种以可变效率提供电屏蔽的屏蔽，该屏蔽包括：一个共用节点；一个整体屏蔽元件；和一个在共用节点和屏蔽片段之间连接的可变阻抗元件。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
