[发明专利]锰合金溅射靶及其制造方法有效
| 申请号： | 02808289.3 | 申请日： | 2002-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN1503855A | 公开（公告）日： | 2004-06-09 |
| 发明（设计）人： | 中村祐一郎 | 申请（专利权）人： | 株式会社日矿材料 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C1/02;B21J5/02;B21J5/08;G11B5/851;G11B5/65 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王维玉;丁业平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供特征在于氧含量1000ppm以下、硫含量200ppm以下、具有锻造组织的锰合金溅射靶，和通过消除易于开裂、断裂强度低的锰合金的缺陷，稳定制造锻造锰合金靶的方法。得到了结节和粒子的产生少、并且可以形成具有高特性、高耐蚀性的薄膜的锰合金溅射靶。 | ||
| 搜索关键词： | 合金 溅射 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种锰合金溅射靶，其特征在于，氧含量为1000ppm以下，硫含量为200ppm以下，并且具有锻造组织。
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