[发明专利]均匀涂布基片的方法无效
| 申请号： | 02808303.2 | 申请日： | 2002-02-12 |
| 公开（公告）号： | CN1503929A | 公开（公告）日： | 2004-06-09 |
| 发明（设计）人： | E·古勒;T·钟;J·刘易冷;E·C·李;R·P·曼达尔;J·C·格拉姆博;T·C·贝特斯;D·R·绍尔;E·R·沃德;J－H·纯;S·韩 | 申请（专利权）人： | 硅谷集团公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;B05D1/00;B05D3/04;B05C11/02;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵蓉民;彭益群 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种利用聚合物溶液涂布基片以产生均匀厚度的膜的方法和装置，其包括将基片安装在封闭式箱体内，以及使控制气体通过入口进入箱体，控制气体可以是含溶剂蒸汽气体。聚合物溶液沉积到箱体内的基片表面上，然后旋转基片。控制气体以及控制气体中悬浮的任何溶剂蒸汽和粒子杂质通过出口从箱体排出，并且通过控制箱体和溶剂的温度而控制溶剂蒸汽浓度，含溶剂蒸汽气体从溶剂中产生。也可以通过混合不同溶剂浓度的气体来控制浓度。还可以控制气体的湿度。 | ||
| 搜索关键词： | 均匀 涂布基片 方法 | ||
【主权项】：
1.一种利用聚合物溶液涂布基片表面的方法，该方法包括：将基片安装在封闭式箱体内；对控制气体的溶剂蒸汽浓度进行控制，使其大于约50％的饱和度；使控制气体通过入口进入箱体；将聚合物溶液挤出在箱体内的基片表面上；使基片自旋；以及通过出口从箱体排出控制气体以及控制气体中悬浮的任何溶剂蒸汽和粒子杂质。
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